上�？萍即髮W(xué)公共超凈平臺是學(xué)校開展半導(dǎo)體器件工藝及其交叉學(xué)科研究的重要創(chuàng)新平臺。本超凈室主要為III-V族，III-Nitride,Si，Ge等無機(jī)半導(dǎo)體材料和相關(guān)新型器件提供研究和制造平臺。公共超凈平臺的建設(shè)目的是為了促進(jìn)納米科學(xué)技術(shù)、半導(dǎo)體技術(shù)、光電子技術(shù)的基礎(chǔ)研究和發(fā)展，以及能源、信息、材料、醫(yī)療、環(huán)境等領(lǐng)域多學(xué)科交叉研究。通過3-5年持續(xù)的發(fā)展和建設(shè)，將逐步建立起條件優(yōu)良，功能齊全，管理規(guī)范，先進(jìn)高效的優(yōu)質(zhì)資源公用系統(tǒng)和共享機(jī)制，建設(shè)成適應(yīng)于當(dāng)前以及未來器件工藝研發(fā)所需要的基礎(chǔ)支撐體系。公共超凈平臺屬于上科大公共科研平臺，委托信息學(xué)院籌建并先期管理。其中，電子束曝光機(jī)（EBL）是平臺大型核心設(shè)備，工藝工序復(fù)雜性和技術(shù)性要求高，需要專崗進(jìn)行工藝創(chuàng)新與操作、設(shè)備管理與維護(hù)。
崗位名稱：電子束曝光機(jī)（EBL）工藝工程師
崗位人數(shù)：1
1)負(fù)責(zé)嫻熟操作與使用包含但不限于電子束曝光機(jī)、掃描電子顯微鏡、勻膠機(jī)、化學(xué)通風(fēng)柜、甩干機(jī)等實(shí)驗(yàn)設(shè)備及裝置；
2)負(fù)責(zé)完善與電子束曝光工藝流程（曝光、勻膠、顯影、堅(jiān)膜等）相關(guān)的工藝規(guī)范制訂與執(zhí)行，研究工藝參數(shù)與條件對實(shí)驗(yàn)結(jié)果的影響趨勢或規(guī)律；
3)具備對特殊圖形的電子束光刻工藝技巧，負(fù)責(zé)設(shè)計(jì)制定曝光工藝優(yōu)化方案、優(yōu)化工藝窗口、改善工藝能力；對新進(jìn)工藝工程師或工藝技術(shù)員執(zhí)行培訓(xùn)方案，以及后臺用戶預(yù)約的管理；
4)負(fù)責(zé)日常電子束曝光工藝問題處理，完成分析報(bào)告并及時(shí)完成相關(guān)文件；
5)負(fù)責(zé)電子束曝光工藝相關(guān)的必備耗材與工具清單，并實(shí)行保管和管理；
6)負(fù)責(zé)PM電子束曝光機(jī)，建立健全設(shè)備管理制度、維護(hù)保養(yǎng)制度，做好設(shè)備技術(shù)資料的形成、積累、整理、歸檔工作；
7)負(fù)責(zé)編制年/季/月度/周儀器設(shè)備的預(yù)檢計(jì)劃、設(shè)備大修計(jì)劃，備品備件制造和供應(yīng)計(jì)劃；
8)幫助和培訓(xùn)學(xué)生以及其他科研工作人員使用曝光工藝相關(guān)的設(shè)備與儀器；
9)輔助微納制造實(shí)驗(yàn)課程的制定和開設(shè)；
10)其他上級交待的相關(guān)工作。
1)具有微電子，光電子，材料或者物理等領(lǐng)域的本科學(xué)歷及以上；
2)具備電子束曝光機(jī)使用和維護(hù)經(jīng)歷1年以上，參與過EBL設(shè)備的采購技術(shù)談判經(jīng)歷者優(yōu)先考慮；
3)具有豐富的器件工藝的經(jīng)歷（研究生的在�？蒲薪�(jīng)歷也適用），具備計(jì)算機(jī)輔助制圖以及制作光刻版圖形的能力；
4)對半導(dǎo)體器件，光電子器件的工作原理和測試有基本的了解；
5)具有良好的團(tuán)隊(duì)合作精神，善于溝通；
6)能夠閱讀相關(guān)專業(yè)的英語文獻(xiàn)及具備英文寫作能力；
7)具有良好的協(xié)調(diào)溝通能力、管理能力和學(xué)習(xí)能力、以及團(tuán)隊(duì)合作精神。
工作條件與工資待遇
按照上�？萍即髮W(xué)相關(guān)規(guī)定執(zhí)行，根據(jù)個(gè)人具體情況，提供具有競爭力的薪酬、津貼和福利。
應(yīng)聘方式
請應(yīng)聘者填寫完整的應(yīng)聘材料，通過上海科技大學(xué)人才招聘系統(tǒng)提交應(yīng)聘申請，不接受現(xiàn)場應(yīng)聘。
崗位名稱：電子束曝光機(jī)（EBL）工藝工程師
崗位人數(shù)：1
1)負(fù)責(zé)嫻熟操作與使用包含但不限于電子束曝光機(jī)、掃描電子顯微鏡、勻膠機(jī)、化學(xué)通風(fēng)柜、甩干機(jī)等實(shí)驗(yàn)設(shè)備及裝置；
2)負(fù)責(zé)完善與電子束曝光工藝流程（曝光、勻膠、顯影、堅(jiān)膜等）相關(guān)的工藝規(guī)范制訂與執(zhí)行，研究工藝參數(shù)與條件對實(shí)驗(yàn)結(jié)果的影響趨勢或規(guī)律；
3)具備對特殊圖形的電子束光刻工藝技巧，負(fù)責(zé)設(shè)計(jì)制定曝光工藝優(yōu)化方案、優(yōu)化工藝窗口、改善工藝能力；對新進(jìn)工藝工程師或工藝技術(shù)員執(zhí)行培訓(xùn)方案，以及后臺用戶預(yù)約的管理；
4)負(fù)責(zé)日常電子束曝光工藝問題處理，完成分析報(bào)告并及時(shí)完成相關(guān)文件；
5)負(fù)責(zé)電子束曝光工藝相關(guān)的必備耗材與工具清單，并實(shí)行保管和管理；
6)負(fù)責(zé)PM電子束曝光機(jī)，建立健全設(shè)備管理制度、維護(hù)保養(yǎng)制度，做好設(shè)備技術(shù)資料的形成、積累、整理、歸檔工作；
7)負(fù)責(zé)編制年/季/月度/周儀器設(shè)備的預(yù)檢計(jì)劃、設(shè)備大修計(jì)劃，備品備件制造和供應(yīng)計(jì)劃；
8)幫助和培訓(xùn)學(xué)生以及其他科研工作人員使用曝光工藝相關(guān)的設(shè)備與儀器；
9)輔助微納制造實(shí)驗(yàn)課程的制定和開設(shè)；
10)其他上級交待的相關(guān)工作。
1)具有微電子，光電子，材料或者物理等領(lǐng)域的本科學(xué)歷及以上；
2)具備電子束曝光機(jī)使用和維護(hù)經(jīng)歷1年以上，參與過EBL設(shè)備的采購技術(shù)談判經(jīng)歷者優(yōu)先考慮；
3)具有豐富的器件工藝的經(jīng)歷（研究生的在�？蒲薪�(jīng)歷也適用），具備計(jì)算機(jī)輔助制圖以及制作光刻版圖形的能力；
4)對半導(dǎo)體器件，光電子器件的工作原理和測試有基本的了解；
5)具有良好的團(tuán)隊(duì)合作精神，善于溝通；
6)能夠閱讀相關(guān)專業(yè)的英語文獻(xiàn)及具備英文寫作能力；
7)具有良好的協(xié)調(diào)溝通能力、管理能力和學(xué)習(xí)能力、以及團(tuán)隊(duì)合作精神。
工作條件與工資待遇
按照上�？萍即髮W(xué)相關(guān)規(guī)定執(zhí)行，根據(jù)個(gè)人具體情況，提供具有競爭力的薪酬、津貼和福利。
應(yīng)聘方式
請應(yīng)聘者填寫完整的應(yīng)聘材料，通過上海科技大學(xué)人才招聘系統(tǒng)提交應(yīng)聘申請，不接受現(xiàn)場應(yīng)聘。
為防止簡歷投遞丟失請抄送一份至：boshijob@126.com（郵件標(biāo)題格式：應(yīng)聘職位名稱+姓名+學(xué)歷+專業(yè)+中國博士人才網(wǎng)）
中國-博士人才網(wǎng)發(fā)布
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