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上?萍即髮W公共超凈平臺2019年5月招聘1名電子束曝光機(EBL)工藝工程師

時間:2019-05-20來源:中國博士人才網(wǎng) 作者:佚名
上?萍即髮W公共超凈平臺是學校開展半導體器件工藝及其交叉學科研究的重要創(chuàng)新平臺。本超凈室主要為III-V族,III-Nitride,Si,Ge等無機半導體材料和相關新型器件提供研究和制造平臺。公共超凈平臺的建設目的是為了促進納米科學技術、半導體技術、光電子技術的基礎研究和發(fā)展,以及能源、信息、材料、醫(yī)療、環(huán)境等領域多學科交叉研究。通過3-5年持續(xù)的發(fā)展和建設,將逐步建立起條件優(yōu)良,功能齊全,管理規(guī)范,先進高效的優(yōu)質資源公用系統(tǒng)和共享機制,建設成適應于當前以及未來器件工藝研發(fā)所需要的基礎支撐體系。公共超凈平臺屬于上科大公共科研平臺,委托信息學院籌建并先期管理。其中,電子束曝光機(EBL)是平臺大型核心設備,工藝工序復雜性和技術性要求高,需要專崗進行工藝創(chuàng)新與操作、設備管理與維護。
崗位名稱:電子束曝光機(EBL)工藝工程師
崗位人數(shù):1
1)負責嫻熟操作與使用包含但不限于電子束曝光機、掃描電子顯微鏡、勻膠機、化學通風柜、甩干機等實驗設備及裝置;
2)負責完善與電子束曝光工藝流程(曝光、勻膠、顯影、堅膜等)相關的工藝規(guī)范制訂與執(zhí)行,研究工藝參數(shù)與條件對實驗結果的影響趨勢或規(guī)律;
3)具備對特殊圖形的電子束光刻工藝技巧,負責設計制定曝光工藝優(yōu)化方案、優(yōu)化工藝窗口、改善工藝能力;對新進工藝工程師或工藝技術員執(zhí)行培訓方案,以及后臺用戶預約的管理;
4)負責日常電子束曝光工藝問題處理,完成分析報告并及時完成相關文件;
5)負責電子束曝光工藝相關的必備耗材與工具清單,并實行保管和管理;
6)負責PM電子束曝光機,建立健全設備管理制度、維護保養(yǎng)制度,做好設備技術資料的形成、積累、整理、歸檔工作;
7)負責編制年/季/月度/周儀器設備的預檢計劃、設備大修計劃,備品備件制造和供應計劃;
8)幫助和培訓學生以及其他科研工作人員使用曝光工藝相關的設備與儀器;
9)輔助微納制造實驗課程的制定和開設;
10)其他上級交待的相關工作。
1)具有微電子,光電子,材料或者物理等領域的本科學歷及以上;
2)具備電子束曝光機使用和維護經(jīng)歷1年以上,參與過EBL設備的采購技術談判經(jīng)歷者優(yōu)先考慮;
3)具有豐富的器件工藝的經(jīng)歷(研究生的在校科研經(jīng)歷也適用),具備計算機輔助制圖以及制作光刻版圖形的能力;
4)對半導體器件,光電子器件的工作原理和測試有基本的了解;
5)具有良好的團隊合作精神,善于溝通;
6)能夠閱讀相關專業(yè)的英語文獻及具備英文寫作能力;
7)具有良好的協(xié)調溝通能力、管理能力和學習能力、以及團隊合作精神。
工作條件與工資待遇
按照上?萍即髮W相關規(guī)定執(zhí)行,根據(jù)個人具體情況,提供具有競爭力的薪酬、津貼和福利。
應聘方式
請應聘者填寫完整的應聘材料,通過上?萍即髮W人才招聘系統(tǒng)提交應聘申請,不接受現(xiàn)場應聘。

為防止簡歷投遞丟失請抄送一份至:boshijob@126.com(郵件標題格式:應聘職位名稱+姓名+學歷+專業(yè)+中國博士人才網(wǎng))

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