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上?萍即髮W(xué)量子器件中心2020年1月招聘2名蝕刻工藝工程師

時間:2020-01-13來源:中國博士人才網(wǎng) 作者:佚名

上?萍即髮W(xué)量子器件中心(ShanghaiTechQuantumDeviceLab.,SQDL)是學(xué)校開展半導(dǎo)體量子微納器件工藝以及交叉學(xué)科研究的重要創(chuàng)新平臺,是一個面向全校、科研院所乃至全社會開放的校級公共科研平臺。

SQDL建設(shè)目標(biāo):適合于學(xué)科前沿和前瞻性技術(shù)發(fā)展的、開放共享的、固體功能材料微納工藝制造平臺,以期形成具備國際一流的研發(fā)技術(shù)水平,為我國芯片技術(shù)發(fā)展做出貢獻(xiàn)。

SQDL服務(wù)定位:聚焦在量子探測器、微電子芯片為代表的固體微納器件學(xué)科前沿和前瞻技術(shù),與中國科學(xué)院上海分院的各研究所和上海市微納器件重要學(xué)科以及新技術(shù)骨干研究機(jī)構(gòu)形成戰(zhàn)略聯(lián)盟,重點解決技術(shù)成熟度在1-3級的前瞻技術(shù)概念驗證和培育問題;設(shè)計、構(gòu)造和形成以量子器件、半導(dǎo)體芯片和NEMS芯片為牽引的世界級水平的微納加工平臺。

SQDL發(fā)展方向:重點聚焦在量子器件、微納光電子和納機(jī)電系統(tǒng)等新一代芯片,為破解新一代芯片中卡脖子問題形成貢獻(xiàn)。在量子器件領(lǐng)域,重點圍繞超導(dǎo)材料和硬X射線探測器研發(fā)特殊應(yīng)用領(lǐng)域的量子芯片;新一代微納光電子領(lǐng)域,重點圍繞半導(dǎo)體材料中的GaN基材料、Si/SiC基材料和III-V基材料研發(fā)新一代微光電子芯片;納機(jī)電系統(tǒng)重點方向是圍繞鐵電、鐵磁等功能材料的新型聲學(xué)傳感與射頻器件。

崗位名稱:蝕刻工藝工程師

崗位人數(shù):

2

1)    負(fù)責(zé)嫻熟操作與使用超凈室中包含但不限于等離子增強(qiáng)刻蝕、反應(yīng)離子刻蝕/低溫RIE刻蝕/高功率RIE刻蝕/XeF2/HF以及化學(xué)通風(fēng)柜等實驗設(shè)備,掌握蝕刻工藝原理;

2)    負(fù)責(zé)制定和完善與刻蝕工藝(含干法和濕法)流程相關(guān)的工藝規(guī)范,研究工藝參數(shù)與條件對實驗結(jié)果的影響趨勢或規(guī)律;

3)    負(fù)責(zé)設(shè)計制定刻蝕工藝優(yōu)化方案、優(yōu)化工藝窗口、提升工藝控制能力,并對用戶進(jìn)行培訓(xùn)。

4)    負(fù)責(zé)實現(xiàn)并完成學(xué)?蒲许椖俊⑼鈪f(xié)項目與刻蝕工藝(含干法和濕法)相關(guān)的工藝流程;

5)    負(fù)責(zé)日?涛g工藝異常問題處理,完成分析報告并及時完成相關(guān)文件記錄;

6)    負(fù)責(zé)采購、保管和管理刻蝕工藝相關(guān)的必備耗材與工具;

7)    幫助和培訓(xùn)學(xué)生以及其他科研工作人員使用刻蝕工藝相關(guān)的設(shè)備與儀器;

8)    輔助半導(dǎo)體器件制造實驗課程的制定和開設(shè);

9)    其他主管交待的相關(guān)工作。

1)    具有微電子,光電子,材料或者物理等領(lǐng)域的本科學(xué)歷及以上;

2)    具有豐富的器件工藝經(jīng)歷(研究生的在校科研經(jīng)歷也適用);

3)    對微電子器件,光電子器件的結(jié)構(gòu)和工作原理有基本的了解;

4)    具有良好的團(tuán)隊合作精神,善于溝通;

5)    能夠閱讀相關(guān)專業(yè)的英語文獻(xiàn)及具備英文寫作能力;

6)    具有良好的協(xié)調(diào)溝通能力、管理能力和學(xué)習(xí)能力、以及團(tuán)隊合作精神。

工作條件與工資待遇

按照上?萍即髮W(xué)相關(guān)規(guī)定執(zhí)行,根據(jù)個人具體情況,提供具有競爭力的薪酬、津貼和福利。

應(yīng)聘方式

請應(yīng)聘者填寫完整的應(yīng)聘材料,通過上?萍即髮W(xué)人才招聘系統(tǒng)提交應(yīng)聘申請,不接受現(xiàn)場應(yīng)聘。

為防止簡歷投遞丟失請抄送一份至:boshijob@126.com(郵件標(biāo)題格式:應(yīng)聘職位名稱+姓名+學(xué)歷+專業(yè)+中國博士人才網(wǎng))

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