上�？萍即髮W(xué)量子器件中心（ShanghaiTechQuantumDeviceLab.，SQDL）是學(xué)校開展半導(dǎo)體量子微納器件工藝以及交叉學(xué)科研究的重要創(chuàng)新平臺，是一個面向全校、科研院所乃至全社會開放的校級公共科研平臺。
SQDL建設(shè)目標(biāo)：適合于學(xué)科前沿和前瞻性技術(shù)發(fā)展的、開放共享的、固體功能材料微納工藝制造平臺，以期形成具備國際一流的研發(fā)技術(shù)水平，為我國芯片技術(shù)發(fā)展做出貢獻(xiàn)。
SQDL服務(wù)定位：聚焦在量子探測器、微電子芯片為代表的固體微納器件學(xué)科前沿和前瞻技術(shù)，與中國科學(xué)院上海分院的各研究所和上海市微納器件重要學(xué)科以及新技術(shù)骨干研究機(jī)構(gòu)形成戰(zhàn)略聯(lián)盟，重點解決技術(shù)成熟度在1-3級的前瞻技術(shù)概念驗證和培育問題；設(shè)計、構(gòu)造和形成以量子器件、半導(dǎo)體芯片和NEMS芯片為牽引的世界級水平的微納加工平臺。
SQDL發(fā)展方向：重點聚焦在量子器件、微納光電子和納機(jī)電系統(tǒng)等新一代芯片，為破解新一代芯片中卡脖子問題形成貢獻(xiàn)。在量子器件領(lǐng)域，重點圍繞超導(dǎo)材料和硬X射線探測器研發(fā)特殊應(yīng)用領(lǐng)域的量子芯片；新一代微納光電子領(lǐng)域，重點圍繞半導(dǎo)體材料中的GaN基材料、Si/SiC基材料和III-V基材料研發(fā)新一代微光電子芯片；納機(jī)電系統(tǒng)重點方向是圍繞鐵電、鐵磁等功能材料的新型聲學(xué)傳感與射頻器件。
崗位名稱：蝕刻工藝工程師
崗位人數(shù):
2
1) 負(fù)責(zé)嫻熟操作與使用超凈室中包含但不限于等離子增強(qiáng)刻蝕、反應(yīng)離子刻蝕/低溫RIE刻蝕/高功率RIE刻蝕/XeF2/HF以及化學(xué)通風(fēng)柜等實驗設(shè)備，掌握蝕刻工藝原理；
2) 負(fù)責(zé)制定和完善與刻蝕工藝（含干法和濕法）流程相關(guān)的工藝規(guī)范，研究工藝參數(shù)與條件對實驗結(jié)果的影響趨勢或規(guī)律；
3) 負(fù)責(zé)設(shè)計制定刻蝕工藝優(yōu)化方案、優(yōu)化工藝窗口、提升工藝控制能力，并對用戶進(jìn)行培訓(xùn)。
4) 負(fù)責(zé)實現(xiàn)并完成學(xué)�？蒲许椖俊⑼鈪f(xié)項目與刻蝕工藝（含干法和濕法）相關(guān)的工藝流程；
5) 負(fù)責(zé)日�？涛g工藝異常問題處理，完成分析報告并及時完成相關(guān)文件記錄；
6) 負(fù)責(zé)采購、保管和管理刻蝕工藝相關(guān)的必備耗材與工具；
7) 幫助和培訓(xùn)學(xué)生以及其他科研工作人員使用刻蝕工藝相關(guān)的設(shè)備與儀器；
8) 輔助半導(dǎo)體器件制造實驗課程的制定和開設(shè)；
9) 其他主管交待的相關(guān)工作。
1) 具有微電子，光電子，材料或者物理等領(lǐng)域的本科學(xué)歷及以上；
2) 具有豐富的器件工藝經(jīng)歷（研究生的在校科研經(jīng)歷也適用）；
3) 對微電子器件，光電子器件的結(jié)構(gòu)和工作原理有基本的了解；
4) 具有良好的團(tuán)隊合作精神，善于溝通；
5) 能夠閱讀相關(guān)專業(yè)的英語文獻(xiàn)及具備英文寫作能力；
6) 具有良好的協(xié)調(diào)溝通能力、管理能力和學(xué)習(xí)能力、以及團(tuán)隊合作精神。
工作條件與工資待遇
按照上�？萍即髮W(xué)相關(guān)規(guī)定執(zhí)行，根據(jù)個人具體情況，提供具有競爭力的薪酬、津貼和福利。
應(yīng)聘方式
請應(yīng)聘者填寫完整的應(yīng)聘材料，通過上�？萍即髮W(xué)人才招聘系統(tǒng)提交應(yīng)聘申請，不接受現(xiàn)場應(yīng)聘。
為防止簡歷投遞丟失請抄送一份至：boshijob@126.com（郵件標(biāo)題格式：應(yīng)聘職位名稱+姓名+學(xué)歷+專業(yè)+中國博士人才網(wǎng)）
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