量子器件中心(SQDL)是上海科技大學(xué)建設(shè)的面向全校、科研院所乃至全社會(huì)開放的大型儀器共享科研平臺,也是學(xué)校開展半導(dǎo)體器件工藝及其交叉學(xué)科研究的重要?jiǎng)?chuàng)新平臺。SQDL將緊緊圍繞學(xué)校學(xué)科發(fā)展和人才培養(yǎng)目標(biāo),以建設(shè)國內(nèi)一流微納加工平臺,在相關(guān)微納芯片領(lǐng)域形成自主核心知識產(chǎn)權(quán)和打造優(yōu)秀技術(shù)團(tuán)隊(duì)為目標(biāo),為我國相關(guān)學(xué)科前沿和前瞻技術(shù)發(fā)展以及人才培養(yǎng)做出積極貢獻(xiàn)。
崗位名稱:光刻工藝工程師
崗位人數(shù):
1
1. 負(fù)責(zé)操作和管理超凈室接觸式光刻機(jī)、激光直寫光刻機(jī)以及相關(guān)的光學(xué)/電子顯微鏡、勻膠機(jī)、烘膠機(jī)、化學(xué)通風(fēng)柜等儀器設(shè)備等;
2. 負(fù)責(zé)編制超凈室所管理設(shè)備操作手冊,制定和完善相關(guān)工藝規(guī)范,研究工藝參數(shù)與條件對實(shí)驗(yàn)結(jié)果的影響趨勢或規(guī)律,設(shè)計(jì)制定工藝優(yōu)化方案、優(yōu)化工藝窗口,不斷提升工藝水平;
3. 負(fù)責(zé)實(shí)現(xiàn)并完成學(xué)校科研項(xiàng)目、外協(xié)項(xiàng)目與光刻工藝相關(guān)的工藝流程;
4. 培訓(xùn)平臺用戶及內(nèi)部工程師使用光刻工藝相關(guān)的設(shè)備與儀器,開展后臺用戶預(yù)約培訓(xùn)和使用的相關(guān)管理工作;
5. 負(fù)責(zé)超凈室光刻區(qū)域所管理設(shè)備定期維護(hù)與保養(yǎng),以及日常工藝異常問題處理;
6. 負(fù)責(zé)維護(hù)超凈室光刻區(qū)域所管理設(shè)備的穩(wěn)定性,編制年/季/月度/周儀器設(shè)備的預(yù)檢計(jì)劃、設(shè)備大修計(jì)劃和備品備件制造和供應(yīng)計(jì)劃;采購、保管和管理相關(guān)設(shè)備工藝相關(guān)的必備耗材與工具,并維護(hù)報(bào)表清單;
7. 負(fù)責(zé)超凈室光刻區(qū)域所管理設(shè)備、配件以及各種氣體、材料供應(yīng)商的聯(lián)絡(luò)和往來業(yè)務(wù);
8. 輔助微納器件制造實(shí)驗(yàn)課程的制定和開設(shè);
9. 完成其他主管交待的相關(guān)工作。
1.學(xué)歷背景:具有半導(dǎo)體微電子、光電子、材料或者物理等相關(guān)專業(yè)本科及以上學(xué)歷。
2.工作經(jīng)驗(yàn):具有豐富的半導(dǎo)體器件工藝的經(jīng)歷(研究生的在校科研經(jīng)歷也適用);具備光刻設(shè)備使用和維護(hù)經(jīng)歷優(yōu)先。
3.基本技能和素質(zhì):
(1)具有良好的思想素養(yǎng)和道德品質(zhì);
(2)熟悉微電子/光電子/MEMS器件的基本工作原理、測試和工藝流程;
(3)具備計(jì)算機(jī)輔助制圖以及制作光刻版圖形的能力
(4)能夠閱讀相關(guān)專業(yè)的英語文獻(xiàn)及具備英文寫作能力;
(5)具備較強(qiáng)的服務(wù)意識,善于溝通協(xié)調(diào),具備較好的分析判斷能力;
(6)具備較強(qiáng)的問題解決能力和應(yīng)變能力;
(7)具備較強(qiáng)的學(xué)習(xí)能力和適應(yīng)能力。
4.個(gè)性特征:
(1)誠實(shí)守信、嚴(yán)謹(jǐn)求實(shí)、廉潔自律;
(2)敬業(yè)、責(zé)任心強(qiáng)、工作積極主動(dòng);
(3)踏實(shí)肯干,責(zé)任心強(qiáng),有鉆研精神。
(4)樂觀積極,具有團(tuán)隊(duì)合作意識。
5.體質(zhì)條件:身體健康,能承受一定的工作壓力和強(qiáng)度。
工作條件與工資待遇
按照上?萍即髮W(xué)相關(guān)規(guī)定執(zhí)行,根據(jù)個(gè)人具體情況,提供具有競爭力的薪酬、津貼和福利。
應(yīng)聘方式
請應(yīng)聘者填寫完整的應(yīng)聘材料,通過上?萍即髮W(xué)人才招聘系統(tǒng)提交應(yīng)聘申請,不接受現(xiàn)場應(yīng)聘。
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